横浜--(BUSINESS WIRE)--（ビジネスワイヤ）-- 高精度3Dセンサー技術ソリューションの開発・製造で世界をリードするサイバーオプティクス・コーポレーション（NASDAQ：CYBE）は、2015年4月20〜22日に横浜で開催される第22回ホトマスク技術展示会で発表を行います。 サイバーオプティクスのフィールドアプリケーションエンジニアのハヤシ・ユキノブが、4月21日（火）の17:25〜19:10にポスタープレゼンテーションを行い、レチクルマスク環境の浮遊粒子に関連した処理で、効率・効果を改善する方法について説明します。 ハヤシは次のように述べています。「従来の表面スキャンレチクルを用いる場合、それがin-situスキャナーであれ、ハンドヘルドであれ、リソグラフィーアプリケーションにおける浮遊粒子の最小化が、今なお課題として残っています。こうした従来の手法は、リアルタイムのフィードバックに欠け、多くの場合、粒子の思いがけない発生源に気づかなかったり、それを特定するのに長い時間を要したりします。サイバーオプティクスは、浮遊粒子の位置をリアルタイムで迅速に特定して問題を解決す
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