栃木県小山市--(BUSINESS WIRE)--（ビジネスワイヤ） -- リソグラフィ光源の主要メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 都丸仁）は、現在実施中の、2014年11月に発表した同社のArF液浸レーザー「GTシリーズ」向けガス消費量削減技術「eTGM」の期限付き無償提供(*1)に引き続き、この度、同社の全レーザー機種に対応したネオンガス消費削減のための包括パッケージ、「ネオンガスレスキュープログラム」を開始したと発表しました。 現在、半導体製造プロセスで使用するArF、KrFレーザーに用いられるレーザーガスの、バッファガスであるネオンは、主な産出国であるウクライナの政情不安が未だ続いていることもあり、近年から問題となっている供給減少が依然として大きな懸念事項となっています。その懸念は価格上昇のみならず、2015年中に市場でも不足が起こるのではないかというところまで広がっています。(*2)これは世界のネオンガスの主要な消費者である半導体産業にとって安定生産を損なう危機的状況といえます。 この事態をうけ、ギガフォトンでは、顧客の安定した大量
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